Kategorie: / Technika:

CCP RIE leptací aparatura Etchlab 200

Cenově dostupný modulární přístroj k leptání plazmou. 

Etchlab 200 je základní, cenově efektivní nástroj pro procesy suchého plazmového leptání v oblasti vědy a výzkumu. Etchlab 200 se vyznačuje snadným a rychlým přímým zakládáním vzorků do velikosti až 200 mm, volitelně až 300 mm. Etchlab 200 je navržen pro maximální modularitu, flexibilitu a jednoduchost použití pro všechny procesy, při kterých je možné wafery vkládat přímo. Typické použití základní konfigurace je leptání dielektrik (SiO2, Si3N4), polovodičů (Si), polymerů a kovů (Au, Pt, Ti, Ni).

Etchlab 200 je ovládán pokročilým software firmy SENTECH s uživatelsky přívětivým grafickým rozhraním. Jeho modulární design nabízí řadu možností rozšíření tak, aby bylo možné splnit požadavky a výzvy i nových pracovních úkolů.

Volitelné příslušenství:

•   Vakuový load lock
•   Wafery do velikosti až 300 mm (12")
•   Efektivnější čerpací systém s turbomolekulární vývěvou
•   Chlazení a ohřev reaktoru
•   Kontrola procesu – laserová interferometrie, optická emisní spektroskopie, hmotnostní spektroskopie (RGA)

Další informace můžete nalézt na stránkách výrobce Etchlab 200, nebo se obraťte na nás.


Měřicí technika Morava s.r.o. | Babická 619 | 664 84 Zastávka u Brna | tel.: + 420 513 034 408 | e-mail: info@mt-m.eu

Created by> eX-press.cz